半導體、電子潔凈廠房設計施工要求

半導體特性決定其制造過程必須有潔凈度要求，環(huán)境中雜質對半導體的特性有著改變或破壞其性能的作用，所以在半導體器件生產過程中對什么都必須嚴格控制，雜質各式各樣，如金屬離子會破壞半導體器件的導電性能，灰塵粒子破壞半導體器件的表面結構等。半導體、電子無塵潔凈廠房有其特殊施工要求，下面無錫一凈凈化設備有限公司就其特點作些經驗交流。

首先了解下半導體器件生產環(huán)境要求，其生產條件除了要求恒溫恒濕外，對生產環(huán)境潔凈度要求很嚴，按單位體積重規(guī)定的塵埃粒子數標準分成潔凈度的等級。一般分為：10級、100級、1000級、10000級、100000級，國際標準IOS14644-1、國標GB50073-2013、美聯邦標準中均有規(guī)定潔凈室和潔凈區(qū)內空氣以大于或等于被考慮粒徑的粒子**濃度限值進行劃分的等級標準。

電子產品性能、質量的提高和生產過程的微細化，日益要求生產環(huán)境具有一定的空氣潔凈度級別和控制凈化車間內工藝生產所需的各類高純物質的供給質量，目前國內外還沒有統(tǒng)一電子產品的空氣潔凈度等級或生產環(huán)境控制要求的統(tǒng)一規(guī)定，各種電子產品的生產廠家依據其生產的產品品種、所采用的生產工藝技術、生產工藝設備、生產用原輔料以及凈化車間運行的實踐經驗確定設計建造凈化車間的空氣潔凈度級別等級（如下表格）。